驰光铭图围绕高性能光刻严格仿真和光学邻近效应校正(OPC)两大方向,已开发出多款核心产品,主要应用于半导体集成电路制造、平板显示器件生产、汽车电子、先进存储器制造等重要产业。近日,驰光铭图完成A轮融资,本轮由上海科创集团旗下知识产权基金领投。本轮融资将用于公司多款主力产品的自主研发与商业化推广,加速推进先进制程高性能计算光刻技术落地应用,助力芯片生产与制造型EDA关键技术的国产化进程。
驰光铭图围绕高性能光刻严格仿真和光学邻近效应校正(OPC)两大方向,已开发出多款核心产品,主要应用于半导体集成电路制造、平板显示器件生产、汽车电子、先进存储器制造等重要产业。近日,驰光铭图完成A轮融资,本轮由上海科创集团旗下知识产权基金领投。本轮融资将用于公司多款主力产品的自主研发与商业化推广,加速推进先进制程高性能计算光刻技术落地应用,助力芯片生产与制造型EDA关键技术的国产化进程。

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